Восьмой семинар по проблемам химического осаждения из газовой фазы пройдет в феврале 2026 года в г. Новосибирск
Размер:
A A A
Цвет: C C C
Изображения Вкл. Выкл.
Обычная версия сайта

Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
ИНСТИТУТ МЕТАЛЛУРГИИ И МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЯ им. А.А. Байкова
Российской академии наук
(ИМЕТ РАН)

Федеральное государственное бюджетное учреждение науки
ИНСТИТУТ МЕТАЛЛУРГИИ И МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЯ им. А.А. Байкова
Российской академии наук
(ИМЕТ РАН)

Ленинский проспект, 49
imet@imet.ac.ru

Восьмой семинар по проблемам химического осаждения из газовой фазы пройдет в феврале 2026 года в г. Новосибирск

Восьмой семинар по проблемам химического осаждения из газовой фазы пройдет в феврале 2026 года в г. Новосибирск
Со 2 по 4 февраля 2026 г. в Институте неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН (г. Новосибирск) состоится 8-й семинар по проблемам химического осаждения из газовой фазы.

Семинар проводится в рамках Кузнецовских чтений ИНХ СО РАН ежегодно, начиная с 2015 года

В программу семинара включены следующие темы:

1. Фундаментальные основы процессов CVD (химия газовой фазы и поверхности, механизмы реакций, кинетика, моделирование, взаимосвязь структуры и свойств).
2. Новые исходные вещества для процессов CVD: синтез, очистка и характеризация.
3. Новые направления в развитии технологии газофазных процессов (активированные процессы CVD, ALD, гибридные технологии, процессы селективного осаждения и др.).
4. Новые материалы, сложные структуры, гибридные и многофункциональные системы, полученные в процессах CVD (однородные и градиентные пленки, напряженные слои, структуры различной архитектуры: нанотрубы, нанонити, нанокомпозиты, наночастицы, квантовые точки и т.д.).
5. Диагностика пленок и покрытий, контроль процессов CVD (контроль процессов превращения компонентов газовой фазы, состояние образующихся фаз, функциональные характеристики слоев и структур, стабильность пленок).
6. CVD: путь от лаборатории к промышленной технологии.
7. Тонкие пленки и наноструктуры, полученные методом PVD: рост, характеризация, моделирование.
8. Применение процессов CVD, ALD и PVD (микро, нано- и оптоэлектроника, химические сенсоры, катализ, производство энергии, оптические и защитные покрытия и др.).

Для участия в работе семинара необходимо:

- зарегистрироваться, используя форму по ссылке
- прикрепить в форме тезисы и акт экспертного заключения с печатью (скан-копия)

Подробнее — на официальном сайте ИНХ СО РАН

Свяжитесь с нами!

ФИО (полностью)

Некорректно заполено поле

Ваш e-mail

Некорректно заполено поле

Контактный телефон

Некорректно заполено поле

Возраст

Некорректно заполено поле

Ваша организация/ВУЗ

Некорректно заполено поле

Как вы узнали о мероприятии?

Некорректно заполено поле

Ваши пожелания/комментарии

Некорректно заполено поле

Некорректно заполено поле

Нажимая отправить вы соглашаетесь с политикой конфиденциальности